IntelとIBMがHigh-K，メタルゲートを発表

Intealは来年初頭の45nmプロセスでHigh-K,　メタルゲートを利用するらしい。次のプロセスはかなり期待できそうな一面、量産にトラブルがでないか心配だったりする。現在のC2Dもクロック耐性は非常に高く、45nmプロセスになると3GHz後半まで行きそうだ。次のネハーレンは初めからディスクトップ用に設計されているし、来年、再来年はクロックが急激にあがりそうだ。前計算した感じだSIMD演算は2GHz前半でメモリ帯域とバランスする感じだったので、CPUばかり速くなるとSIMD使うのが面倒くさくなりそう。